材料合成实验室
目前，实验室主要服务于新材料基础研究与性能优化等课题，支撑内容包括新型配方开发、烧结工艺优化、微观结构分析与性能测试等。我们诚挚欢迎校内外科研团队及企业合作伙伴莅临交流，携手推动先进陶瓷材料的创新与应用。微纳结构表征实验室
配有双束聚焦离子束Helios 5UC、场发射高分辨透射电镜Talos F200X和双球差校正透射电镜Spectra 300。自电镜中心建成以来，已为校内外测试机时累计超3000小时，广受业内专业人士好评。
电镜实验室
Spectra 300是赛默飞第五代旗舰双球差校正透射电镜，集成物镜与聚光镜双球差校正器，可在透射(TEM)和扫描透射(STEM)模式下实现亚埃级分辨率(300 kV下≤50 pm)。配有高亮度肖特基场发射枪加单色器，能量分辨率可调(0.2 eV ~ 1 eV)。集成四探头EDS探测器，可实现原子级EDS元素分布信息采集。同时可采集明场(BF)、环形明场(ABF)、环形暗场(ADF)和高角度环形暗场(HAADF)图像，实时对比不同信号衬度。配有差分相位衬度专用四分割探头，其中积分差分相位衬度像(iDPC)可实现轻重元素同时成像，采用差分相位衬度(DPC)和微分差分相位衬度(dDPC)分别对材料的电场分布和电荷密度分布进行成像。配有先进的Ceta 16M CMOS相机，视场大、读取速度达快 （最低曝光时间1 ms），支持各种原位观察实验。
Talos F200X 是一款高分辨场发射透射电子显微镜，融合透射电子显微(TEM)与扫描透射电子显微(STEM)双模式，为材料科学、纳米技术、半导体领域提供可靠的微观结构分析。Talos F200X采用 X-FEG超稳定高亮度电子枪，亮度达 1.8×109 A/cm2·srad，束流强度为传统肖特基枪的2倍以上。其透射模式（TEM）模式分辨率可达0.12 nm，扫描透射模式（STEM）的分辨率可达0.14 nm。配有四探头超级EDS探测器，可快速确定亚微米范围内的元素分布。
Helios 5 UC电子束-聚焦离子束双束电镜是赛默飞第五代双束电镜旗舰产品，集成扫描电子束(SEM)和聚焦离子束(FIB) 于一体，专为材料科学、半导体等领域的高精度纳米加工与表征设计。该设备具备超高分辨离子束和电子束，可以实现30 kV下优于4.0 nm的离子束分辨率和1 kV下0.7 nm的电子束分辨率。设备以亚纳米分辨率成像、纳米尺度的高加工精度及全自动化工作流程，重新定义了双束电镜的性能标准。可用于：SEM扫描电子显微镜结构分析、微纳结构加工、透射电镜样品及原子探针样品制备。